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Zemax完整光学设计流程:以双胶合消色差物镜为例

Zemax完整光学设计流程:以双胶合消色差物镜为例 1. 光学设计的起点为什么非要用Zemax走一遍完整流程做光学设计这行绕不开的一个工具就是Zemax。我刚入行那会儿也问过前辈“学Zemax到底该先学什么”得到的回答几乎都是同一句话——“别急着点按钮先搞清楚设计流程”。这句话我当时没太当回事后来自己带项目、帮人改设计的时候才明白流程这东西有多重要。很多人打开Zemax就是一顿操作从其他案例里抄个初始结构塞进编辑器点几下优化就等着看结果。运气好能收敛运气不好直接发散然后就开始怀疑是玻璃选错了还是优化函数没设对。其实绝大多数失败根子都在流程上——需求没理清、约束没定好、初始结构没验证后面全是空中楼阁。这篇博文我就拿一个非常经典的双胶合消色差望远镜物镜案例把完整的Zemax光学设计流程走一遍。从需求拆解、初始结构计算、系统建模、像质评价、优化到公差分析每一步都讲清楚“为什么这么做”而不是只告诉你“点哪里”。这套方法不只适用这一个案例换到手机镜头、投影镜头、甚至非序列的照明系统流程骨架都是通用的变的只是细节参数和评价标准。2. 设计流程的整体拆解先把骨架立起来2.1 流程地图从需求到可交付的七个环节光学设计在工程上其实是一个“需求驱动”的过程。我习惯把完整流程拆成七个环节需求分析与指标拆解初始结构求解或选取系统建模与参数录入像质评价与问题诊断优化设计与迭代公差分析与稳健性验证输出图纸与设计文档这七个环节环环相扣前面出错后面全废。我见过一个团队跳过公差分析直接出图结果车间装调时发现镜片偏心公差根本满足不了只能返工。那不是Zemax的问题是流程的问题。2.2 需求分析先接需求再谈设计光学设计接到的需求通常不是光学工程师自己定的而是产品经理或系统工程师提出来的。他们给出的往往是“焦距50mm”“F数2.8”“适配某款传感器”这样一堆参数。这些参数看起来清晰但真正落进Zemax之前必须做一次“翻译”。以我要做的双胶合消色差物镜为例客户诉求可能非常模糊“做一个80mm焦距的镜头用来观察远处的东西”。这句话翻译成光学指标至少包含焦距80mm对应系统整体光焦度需求入瞳直径如果要求相对孔径1:8那入瞳就是10mm视场角要看探测器的靶面尺寸假设用的是1/2英寸CCD对角线8mm视场约5.7°工作波段可见光取F、d、C三色光486.1nm、587.6nm、656.3nm后焦距或法兰距直接决定机械接口怎么设计还有一个很容易被忽略的指标是“像质要求”。是用在观察目镜后面还是直接成像到CMOS这决定了评价像质是用MTF在多少线对处达到多少还是点列图RMS半径要小于多少像素尺寸。这些指标如果不提前定清楚等你优化到一半再回头改浪费的时间往往是几个小时起步。所以我的习惯是任何项目开始之前先写一份“设计需求确认单”把焦距、F数、视场、波段、像质要求、体积约束、玻璃成本偏好全部列出来哪怕有些是初估的也先写个目标值。这一步做完后面所有Zemax操作才有参照系。2.3 方案选型为什么双胶合是这类镜头的主流选择需求明确之后接着就要定系统结构。看见一个“中等焦距、小视场、可见光”的物镜需求我的第一反应就是双胶合消色差透镜。原因有三点。第一双胶合透镜结构简单只有两片镜片一片正一片负用胶合工艺粘在一起。加工和装配成本都低非常适合量产。第二双胶合天然具备消色差能力。正透镜用低色散玻璃如冕牌BK7负透镜用高色散玻璃如火石F4通过合理分配光焦度可以让F光和C光在像面交汇大幅消除轴向色差。第三双胶合对球差也有很好的校正能力。通过选择合适的玻璃组合和曲率半径可以在球差、彗差、色差之间找到平衡。当然这种方案也有限制。它的视场不能太大轴外像差像散、场曲校正能力有限。如果需求是广角镜头或者高分辨率大靶面那就要考虑三片式、双高斯或者其他复杂结构。但作为教学案例双胶合能把流程说透又不会一开始就被几十个变量淹没。提示选初始结构的时候先想想这个结构类型的天花板在哪。双胶合再好也做不出大视场广角这是结构原理决定的。不要硬挑战物理规律。3. 初始结构求解用手算给Zemax一个好起点3.1 光焦度分配消色差条件怎么算很多人喜欢直接翻专利库抄初始结构这没问题。但如果你能自己手算一个大致合理的起点你对系统的理解会深得多优化时也知道该动哪里。双胶合消色差的核心是两个透镜的光焦度需要满足φ φ1 φ2总光焦度等于两片光焦度之和φ1/ν1 φ2/ν2 0消色差条件其中ν是阿贝数表征玻璃色散能力的物理量。冕牌玻璃阿贝数大色散低火石玻璃阿贝数小色散高。我选BK7作为正透镜材料ν1 64.17F4作为负透镜材料ν2 36.37。总焦距f 80mm所以总光焦度φ 0.0125 mm⁻¹。联立上面两个方程φ1 φ × ν1 / (ν1 - ν2) 0.0125 × 64.17 / (64.17 - 36.37) ≈ 0.0289 mm⁻¹对应焦距f1 ≈ 34.6mmφ2 φ - φ1 0.0125 - 0.0289 -0.0164 mm⁻¹对应焦距f2 ≈ -61mm也就是说正透镜焦距约34.6mm负透镜焦距约-61mm。这个组合合在一起总焦距刚好80mm同时F光和C光的焦点基本重合。这里顺便说一下为什么这样就能消色差。单透镜的焦距是波长的函数波长不同折射率不同焦距就不同。正透镜的色差方向是“蓝光焦点比红光近”负透镜的色差方向是“蓝光焦点比红光远”。把两者组合起来让正透镜的色差和负透镜的色差大小相等方向相反就能互相抵消。阿贝数在这里扮演的角色就是“色差折算率”——单位光焦度能产生多少色差所以消色差条件本质上是一个按阿贝数加权的平衡方程。3.2 从薄透镜到厚透镜曲率半径的初步估算光焦度分配只是第一步接下来要把每片透镜的曲率半径算出来。对于薄透镜光焦度与曲率半径的关系是φ (n-1) × (C1 - C2)其中C1、C2是两个表面的曲率曲率是半径的倒数n是折射率。我的做法是先假定一个对称弯曲的形状比如正透镜做成双凸形两面的曲率绝对值接近但不完全相等负透镜做成弯月形两个面都向同一个方向弯。然后代入公式求解。以BK7正透镜为例n 1.5168要求φ1 ≈ 0.0289那么假设第一面曲率C1 0.02半径50mm则可解出C2 C1 - φ1/(n-1) 0.02 - 0.0289/0.5168 ≈ -0.0359半径约-27.9mm负透镜F4n 1.6164φ2 -0.0164取第一面与正透镜第二面贴合。胶合面曲率设为-0.0359即半径-27.9mm与正透镜第二面一致代入公式求负透镜第二面的曲率光焦度公式变形φ2 (n2-1) × (C1 - C2)这里C1就是胶合面的曲率-0.0359-0.0164 (1.6164-1) × (-0.0359 - C2)解出C2 ≈ -0.0094半径约-106.8mm到这里一个粗糙但物理上自洽的初始结构就出来了表面曲率半径mm厚度mm材料第1面正透镜前表面504BK7第2面胶合面-27.96F4第3面负透镜后表面-106.8——3.3 用Zemax快速验证初始结构手算结构存在误差因为用的是薄透镜近似没考虑厚度对光焦度的影响也没考虑实际像差。但没关系我们只需要一个“能在Zemax里跑起来且不会爆”的起点。在Zemax里新建一个系统步骤如下系统选项里设置入瞳直径10mm80mm焦距配F/8入瞳D f/F 80/8 10视场类型选“角度”输入0°、2°、3°半视场因为对称系统可以只看正半区波长选F、d、C三色主波长设为587.6nm在镜头数据编辑器里按手算的曲率半径、厚度、玻璃录入第3面之后设置像面初始距离先随便给一个比如90mm后面再优化调整录完之后打开“布局图”大概率会看到光线没有汇聚到一个点上但至少不会完全乱飞。如果在布局图里光线直接“跑飞了”十有八九是某个面的曲率符号搞反了——正负号是Zemax新手最容易犯的错。曲面弯曲方向的定义是“光线从左往右传播时曲率半径为正表示球心在面右边”。做双胶合时胶合面通常是负曲率半径也就是球心在面左边。4. 像质评价先会看再来改4.1 点列图与RMS半径最直观的判断方法初始结构输进去之后不要急着点优化。先按CtrlA做一次“三阶像差分析”看看主要矛盾是什么。在Zemax的分析菜单里我最先看的是“点列图”Spot Diagram。它反映的是物点发出的光经过系统后在像面上落点的分布情况。理想情况下所有光线落在一个点上实际情况下因为像差存在落点会铺开成一个弥散斑。点列图里有几个关键参数RMS半径所有落点到质心的均方根距离反映弥散斑的整体大小GEO半径所有落点中离质心最远的距离反映弥散斑的边缘范围Airy斑半径衍射极限对应的中心亮斑半径如果RMS半径小于Airy斑半径说明系统已经接近衍射极限对于初始双胶合结构我预期RMS半径会在几十微米甚至上百微米的量级远大于衍射极限。这不意外因为初稿的厚度都没有微调过像差没有校正。还有一种更快的判断方式就是看“光线像差图”Ray Fan。它把光线在入瞳上的位置映射到像面上偏离主光线的距离。如果曲线是类似S形的说明存在球差如果边缘和中心不对称说明有彗差。这个图看起来比点列图抽象但诊断问题比点列图更精确。4.2 MTF曲线工程上真正关心的指标很多工程需求不会直接提“RMS半径小于多少”而是提“像面中心MTF在50 lp/mm处不低于0.3”这样的指标。因为MTF直接反映了系统对不同空间频率可以理解为物体的细节精细程度的传递能力最终决定了成像的清晰度。怎么选择关注的线对频率这取决于探测器像素尺寸。假设客户用的一款CMOS像素尺寸为5.5μm那它的奈奎斯特频率约为90 lp/mm1除以像素尺寸的两倍也就是说这个探测器最多能分辨90 lp/mm的细节。设计时一般取奈奎斯特频率的0.5到1倍作为重点观察区间所以50 lp/mm到70 lp/mm之间的MTF值就是这套系统的核心指标。在Zemax中打开“MTF vs. 空间频率”图可以看到不同视场位置的调制传递函数曲线。初始结构大概率在50 lp/mm处的MTF不到0.2这说明像差很大必须优化。注意MTF低不等于一定是球差也可能是离焦。优化之前先看离焦图把像面位置大致找准再判断是哪种像差主导。见过有人上来就调曲率半径结果只是像面位置不对白白浪费半小时。4.3 赛德尔系数像差诊断的老工具现代Zemax人人都会看点列图和MTF但真正常见像差的判断工具是“赛德尔系数”Seidel Diagram。它能定量告诉你当前结构里球差、彗差、像散、场曲、畸变、轴向色差、倍率色差到底各占多大的比重。在分析菜单里打开赛德尔图你会看到一列条形统计。如果球差SPHA那个条特别高说明主要矛盾在球差如果像散ASTI也很高说明轴外视场的像散也要注意。优化时针对主要像差下手效率远高于盲目全变量优化。对于双胶合这种轴对称系统轴上视场主要是球差和轴向色差轴外视场会增加彗差和像散。手算结构理论上已经把轴向色差消掉了所以赛德尔系数里轴向色差那一项应该不大球差大概率是主角。5. 优化实战建立评价函数的关键细节5.1 变量怎么选边界怎么定初始结构在Zemax里跑通之后可以进入优化环节了。但优化之前先定义哪些参数是变量。双胶合系统我习惯把以下参数设为变量正透镜前表面的曲率半径胶合面的曲率半径负透镜后表面的曲率半径正透镜厚度、负透镜厚度后焦距像面位置玻璃一般不改。在成像系统设计中玻璃材料是离散变量Zemax的局部优化没法平滑地把BK7变成LAK9如果确需换玻璃我会手动替换再重新优化或者用全局优化里的玻璃替换功能。边界条件不能少。曲率半径过大或过小加工时都会出问题半径太大导致镜片太厚半径太小导致中心厚边缘薄甚至变负。我的习惯是为每个厚度设置边界比如最小中心厚度3mm、最大中心厚度15mm同时用边缘厚度操作数控制镜片边缘厚度不低于1mm。5.2 操作数与评价函数的搭建逻辑Zemax优化的本质是把你定义的像差值代入评价函数然后调整变量使它最小化。所以评价函数建得不好优化就白搭。我推荐用“默认评价函数”作为基础再叠加自己的控制操作数。默认评价函数里类型选“RMS”加“Spot Radius”或“Wavefront”。初学阶段建议用RMS Spot Radius因为它更直观直接控制弥散斑大小。系统会生成一堆操作数把所有视场的弥散斑RMS值加权求和。但默认评价函数不管焦距、后焦、边界这些事所以必须手工加控制项。我常加的操作数EFFL控制系统焦距目标值80mmTTHI控制总长防止系统太长MNCA / MXCA控制中心厚度范围MNEG / MXEG控制边缘厚度范围CENX / CENY控制主光线在像面的位置辅助对准权重怎么分配焦距这种硬性指标权重拉到10厚度边界属于“不能违反的约束”权重也高一些像质的权重适中让默认评价函数去管。如果系统发散多半是约束权重太低优化器钻了空子。5.3 局部优化、全局优化和锤优化Zemax的优化器有三种模式很多人不知道什么时候用哪个。局部优化Local Optimization是最常用的。它从当前结构出发沿评价函数下降方向搜索找到一个局部极小值。速度快适合在初始结构已经不错时做小步微调。全局优化Global Optimization会在整个参数空间撒点搜索试图跳出局部极小找到更优的结构。计算量大适合初始结构很差的时候用或者给已经收敛的局部最优做一次“环境扫描”。锤优化Hammer Optimization是全局优化的加强版它在当前最优结构附近做大幅度的随机扰动想象成用锤子不断敲打结构参数试图从局部极小值里“敲”出来去找到更低的谷底。实际设计中我的套路是先用局部优化跑几十步如果评价函数卡住不动了再转全局优化扫一遍如果全局优化找到更优结构再切回局部优化精修。在这个双胶合案例里从手算起点出发局部优化通常几十步就能收敛到不错的效果。因为双胶合系统的设计空间相对简单不存在特别多的局部极小值陷阱。如果做到手机镜头那种六七片的结构全局优化的价值才会真正显现。优化过程中的一个通用心法每优化完一轮保存一个版本。我自己的习惯是在文件名后面加_v1、_v2每做一次大改动就另存一份。Zemax优化是不可逆的一旦操作数改错点下优化键可能把之前好不容易调到的最优结构彻底破坏又回不去——除非你留了版本。提示别一上来就全局优化。除非系统已经收敛到很尴尬的局部极值否则全局优化大部分时间都在浪费算力。先局部后全局再局部效率最高。5.4 优化过程中的“救火”操作实际优化中经常遇到一种情况评价函数骤降但布局图里镜片形状变得离谱比如一面曲率半径变成了-12mm镜片变成了一颗“珠子”。这种就是优化器为了压评价函数值而不择手段的结果。我的救火方法很简单在评价函数编辑器里手动把可疑表面的曲率半径改为一个你觉得加工能接受的数值把边界操作数的权重提高再把对应的变量“冻结”几个重新优化。不要试图一次约束所有变量那样评价函数太僵硬优化效果差。分区优化比一次到位更稳——先只优化三面曲率收敛后再放开厚度变量交替推进。6. 案例实操全记录80mm双胶合物镜从零到可用6.1 初始建模与人瞳设置现在把整个流程从头到尾走一遍所有参数按实际能复现的数值来。新建Zemax文件系统孔径Aperture设为“入瞳直径 10mm”。焦距80mm、F/8入瞳10这个是直接算出来的。单位保持默认的毫米。波长设置选择“F,d,C(Visible)”预设它会自动填入0.4861μm、0.5876μm、0.6563μm三个波长主波长设为d光0.5876μm。视场设置里用角度视场0°、2°、3°三层。为什么不设更多视场因为系统轴对称只设正方向的视场就够了视场数太多会让评价函数复杂度上升优化变慢。对演示案例三个视场足够。镜头数据编辑器录入表面曲率半径厚度玻璃半口径自动OBJ物面无限无限——STO光阑504BK752胶合面-27.96F453后表面-106.8理论后焦初始90——IMA像面————光阑默认放在第一个面上也就是正透镜的前表面。对物镜来说把光阑放在透镜上很常见因为它决定了入瞳位置直接影响彗差和畸变的大小。这里不再单独设置光阑面。6.2 第一次像质评估到底差在哪点开“点列图”我预期看到三种情况弥散斑巨大RMS半径可能超过100μm色差表现为不同波长的落点明显分离F光偏一簇、C光偏一簇球差表现为弥散斑中心密集、边缘发散实际上双胶合消色差结构已经把色差压住了所以不同波长的落点大概率是混在一起的主要问题就集中在球差和轴上像差。这个判断和赛德尔系数应该能对得上。再看“光线像差图”确认球差特征——入瞳边缘处像差曲线的Y轴偏移很大而靠近光轴的地方偏移接近零。这是一种典型的球差签名。此时如果你手动平移像面改变后焦点列图的RMS半径会缩小很多——这就是消除了离焦分量剩下的就是纯球差。6.3 优化操作实战演示打开“优化”选项卡点“评价函数编辑器”按“默认评价函数”按钮。弹窗里设置类型RMS光斑半径Spot Radius采样3环6臂3 rings, 6 arms或更高一些对所有视场使用相同权重然后手动添加控制操作数操作数目标值权重含义EFFL801保持焦距80mmMNCA 231第2面最小中心厚度3mmMNCA 331第3面最小中心厚度3mmMXCA 281第2面最大中心厚度8mmMXCA 381第3面最大中心厚度8mmMNEG 211第2面最小边缘厚度1mmMNEG 311第3面最小边缘厚度1mm把三个曲率半径、两个厚度、一个后焦设为变量。点击“优化”按钮选择“局部优化”跑50步左右。首次优化后评价函数应该会显著下降。这时再看点列图RMS半径可能从100μm级别降到20μm甚至10μm级别。如果还没达到衍射极限附近可以再切到“锤优化”跑100步试试。优化完的一个关键动作审查系统是否满足边界约束。去边界厚度图或直接在3D布局图里看检查每个面的边缘厚度是否小于1mm。如果在布局图里看到哪片镜片特别“薄得像刀刃”说明某个边界约束被置为“忽略”了需要把对应操作数权重提高再重新优化。6.4 优化后指标对照表优化完成后的典型结果不同Zemax版本可能略有差异但数量级一致指标优化前优化后说明焦距mm约8580.02EFFL控制结果后焦mm90约92.5系统自动调整RMS Spot Radius0°视场约120μm约3μm接近衍射极限50 lp/mm处MTF约0.1约0.55明显提升最大畸变约1.2%约0.1%双胶合本身畸变小6.5 公差分析设计再漂亮也要能造出来设计完成不代表项目完成。光学设计的最后一关是公差分析也就是验证“如果实际加工的镜片半径、厚度、偏心都偏离设计值系统的像质还能不能满足要求”。Zemax的公差分析在“公差”菜单里典型流程是设置公差操作数表面曲率半径公差比如±0.02mm、厚度公差±0.05mm、元件偏心±0.05mm、元件倾斜±0.05°、折射率公差±0.001评价标准选择用MTF在50 lp/mm处的下降量或者RMS Spot Radius的变化运行“蒙特卡罗模拟”随机撒100到200组加工误差组合查看统计结果90%以上的样本MTF不低于多少、最差情况MTF是多少如果公差分析结果显示90%的样本MTF低于0.3说明设计对加工误差太敏感需要收紧公差要求加工成本上升重新优化降低系统对某些表面的敏感度加补偿环节比如通过调后焦来补偿焦点漂移实际当中双胶合物镜的公差敏感度通常不高尤其是F/8这种中速镜头普通加工公差就能满足。这也是为什么双胶合成为经典方案的另一个工程原因——工艺性好。6.6 设计输出与文档整理Zemax设计到最后输出阶段很多人草率了事这其实是个坏习惯。一个完整的设计交付物至少包含系统规格表焦距、F数、视场、波段、后焦镜头数据表每个面的曲率、厚度、玻璃、半口径结构图2D剖面图、3D布局图像质报告点列图、MTF、畸变、色差曲线公差分析汇总表加工图纸标注中心厚度、口径、镀膜要求、胶合要求我自己习惯把Zemax里的系统参数截图连同公差分析结果一起整理成一份PDF发给工艺工程师和车间。这份文档就是设计到量产的桥梁写得好能减少大量沟通成本。7. 常见问题排查与实操心得7.1 初始结构放到Zemax里光线直接乱飞怎么办新手最常见的卡顿点。出现这种问题第一件事不是调优化而是检查符号。具体来看曲面曲率半径正负号是否按照“球心在面右侧为正”的约定胶合面的两个曲率半径是否严格相等正透镜第二面和负透镜第一面必须共面厚度有没有输入成负数玻璃名称是否正确拼写BK7拼错成了BK 7或者BK7_FZemax会因为找不到材料而报错或者当成空气处理还有一种隐蔽问题初始结构的后焦给得不合理。手算薄透镜结构给的后焦90mm只是猜测值优化前最好先用快捷键CtrlShiftF做一次快速对焦Quick Focus让像面自动移到最佳位置。很多时候光线看起来“乱飞”其实就是离焦太远焦面偏到几十毫米之外。7.2 优化半天结果不收敛是哪里出了问题评价函数下不去不要急着加权重先看“评价函数里的最大项是什么”。在评价函数编辑器里按权重排序你会发现排在最前面、贡献最大的那几项往往就是让系统卡壳的元凶。比如EFFL控制项权重设为1但默认评价函数对RMS半径的重权重压过它优化器就拼命降低光斑而牺牲焦距。这时系统面型会变得很怪异总焦距也偏到离谱。解决办法是把EFFL权重提高到30甚至50让它成为不可谈判的硬约束。还有一种情况是变量太多导致系统自由度过大评价函数在多个方向间摇摆。5个变量以内的问题局部优化通常很快收敛超过10个变量局部优化就经常卡在奇怪的地方。解决方案是先冻结次要变量比如先只优化曲率半径厚度都锁住等曲率收敛了再放开厚度微调交替进行。这个方法在复杂镜头设计里特别管用我把它叫做“分区交替优化法”。7.3 双胶合系统优化后焦距跑偏怎么办优化器为了控制像质很容易让系统焦距飘走。EFFL操作数目标值是80但如果权重不够它会给你出一个焦距85mm但点列图很漂亮的系统。我的做法是优化结束后不要只看点列图第一件事打开系统数据面板核对焦距是否真的在80±0.5mm范围内。如果偏了在评价函数编辑器里把EFFL权重从1改成100重新优化。这么大的权重优化器无论如何都会把焦距拉回目标值。等焦距稳定了再降回10左右的权重精修像质。焦距偏掉还有一个原因玻璃折射率输入错了。BK7在587.6nm的折射率是1.5168如果你用的是1.5或者1.52这种近似值算出来的光焦度分配就不准焦距自然跑偏。7.4 常用快捷键和操作小技巧分享几个我每天都在用的Zemax操作技巧CtrlZ撤销。很多人不知道Zemax支持多步撤销改错参数不用重来CtrlA打开三阶像差分析菜单快速诊断主导像差CtrlShiftF快速对焦把像面放到最佳位置优化前必做F7打开评价函数编辑器F6打开镜头数据编辑器另外一个非常实用的小技巧在镜头数据编辑器里选中多个表面后右键可以直接批量修改所有选中面的某个参数比如统一把曲率半径变化量写入省去一行一行改的麻烦。7.5 新手常走的弯路上来就做全局优化我见过很多新手打开Zemax第一件事就是把优化方式设成“全局优化”以为越高级越好。结果就是参数在几百个组合之间来回跳界面卡到无响应最后出了一个看起来奇怪但实际上没法加工的结构。全局优化的正确打开方式是“先窄后宽”。先局部优化得到一条不错的路径再用全局优化在这个路径附近探索更优结构最后切回局部精修。不建议让全局优化直接从初始结构开跑——双胶合这种简单系统慢不说还可能因为搜索空间太大跑到奇怪的局部极小值去。7.6 关于“衍射干涉仿真”的那些事很多人搜Zemax的时候会搜到“zemax怎么仿真衍射干涉”这也是热搜词里我很想聊一句的。Zemax其实有两种完全不同的工作模式序列模式Sequential和非序列模式Non-Sequential。序列模式处理成像系统光线按表面顺序依次传播就是我们前面做的这种设计。非序列模式处理的是照明、杂散光、分光棱镜这类场景光线可以在物体中任意传播、分裂、被反射多次。如果你设计的是LED透镜、像素大灯的光学系统那应该切到非序列模式去。非序列模式里光源用“Source Ray”或“Source DLL”定义接收面用“探测器”Detector Rectangle/Color来记录辐照度分布。分光棱镜这种多路径系统也是非序列的典型应用——光在棱镜内部被分束同一根光线可以同时产生反射和透射两个分支序列模式根本表达不了这种物理现象。不过我要提醒一句非序列模式和序列模式的操作逻辑很不一样不要试图用序列模式的经验硬套。我刚接触非序列时也踩过不少坑比如光源位置设得不对导致探测器上什么光都收不到。它值得单独写一篇长文这里只提个思路方向。8. 写在最后流程比参数更重要把整个双胶合物镜案例走了一遍回过头来说说我最大的体会。光学设计真正的门槛不在软件操作而在“判断力”——知道当前系统的主要矛盾是什么知道该动哪个参数知道优化到什么程度算合格。这些能力只能从完整的流程训练中获得。每接到一个新项目不管多简单我都强迫自己把需求分析、初始结构、像质评价、优化、公差分析这套流程完整走一遍。一开始觉得繁琐后来发现这其实是最快的路径因为每一步都在为下一步扫清障碍返工次数大幅减少。最后再分享一个实用技巧优化设计时最好先把“RMS Spot Radius”作为评价指标把系统拉到大致正确的区域再切换成“RMS Wavefront”做精修。波前评价对细节像差的灵敏度比光斑半径高两者配合能比只用单一指标快不少。这个技巧在帮朋友调试几款投影镜头时反复验证过值得记在本子上。
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