高斯点喷涂方法：可实时渲染数亿个高斯分布，加速大规模场景渲染！

高斯点喷涂研究成果发布约里斯·里斯戴克、克里斯托夫·彼得斯、迈克尔·魏因曼、里卡多·马罗金提出了高斯点喷涂Gaussian point splatting方法该研究成果发表于2026年7月的《ACM图形学汇刊SIGGRAPH会议论文集》第45卷第4期。高斯点喷涂方法介绍高斯点喷涂是一种随机渲染高斯喷涂的方法能很好地扩展到包含大量高斯分布的场景中。其核心思路是从高斯分布中采样像素大小的不透明点并使用64位原子操作将它们喷涂到帧缓冲区。通过并行编程原语能在数百万个线程间均匀分配工作量。不过由于线程独立地喷涂点可能会有多个点喷涂到同一个像素上因此确定为一个高斯分布喷涂多少个点以及如何分布这些点以达到所需的不透明度并非易事。研究团队成功地将这些问题形式化并解决保证了渲染结果与原始的高斯喷涂效果一致。加速技术与效果为进一步加速该方法研究团队采用了分层视锥体和遮挡剔除技术。该方法能实时渲染数亿个高斯分布与原始高斯喷涂相比唯一的区别是有轻微的噪声和走样差异。展示与发布信息这项工作将于2026年7月20日在SIGGRAPH 2026会议上展示作者版本已于2026年5月20日发布。此外还提供了论文、项目页面、补充视频、补充结果、源代码等相关资源。